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        因涉及“光刻機(jī)”誤導(dǎo)性陳述，蘇大維格正在被追責(zé)。

        10月12日晚間，蘇大維格(300331)披露深交所關(guān)注函，公司在互動易平臺對投資者提問的有關(guān)“光刻機(jī)”相關(guān)回復(fù)受到媒體和投資者廣泛質(zhì)疑，并引起股價大幅波動，涉嫌存在不真實(shí)、不準(zhǔn)確、不完整情形及誤導(dǎo)性陳述，市場影響惡劣，交易所將對蘇大維格及相關(guān)違規(guī)當(dāng)事人啟動紀(jì)律處分程序。

        此“光刻”非彼“光刻”

        此“光刻”非彼“光刻”的誤導(dǎo)性陳述始于上市公司在互動易平臺的系列表述。“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家出口”、“公司已關(guān)注到納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領(lǐng)域具備替代傳統(tǒng)光刻的應(yīng)用潛力，并在積極布局”，蘇大維格9月14日午間的上述表示，直接引得市場將其歸入“光刻機(jī)”概念股，投資者情緒被點(diǎn)燃。

        當(dāng)日午間開盤后，蘇大維格即獲大幅拉升并斬獲20%漲停，股價收于33.12元/股，當(dāng)天成交額達(dá)到15.55億元。

        9月15日一早，深交所便向蘇大維格下發(fā)關(guān)注函，要求公司補(bǔ)充披露所生產(chǎn)光刻設(shè)備的具體類型、主要客戶及下游用途，以及最近一年一期境內(nèi)外銷售情況，并核實(shí)說明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術(shù)參數(shù)是否與業(yè)內(nèi)龍頭廠商存在較大差距，并進(jìn)一步提示相關(guān)風(fēng)險。

        當(dāng)天晚間，蘇大維格披露了線上中報業(yè)績說明會的紀(jì)要，其中對光刻設(shè)備問題有所回應(yīng)。公告稱，公司高端智能裝備包括直寫光刻、3D 光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻設(shè)備等，部分直寫光刻設(shè)備已向國內(nèi)外高校及科研院所、國內(nèi)企業(yè)等銷售。現(xiàn)階段，公司光刻設(shè)備銷售規(guī)模相對有限，部分應(yīng)用領(lǐng)域離國際先進(jìn)水平具有一定差距，需要持續(xù)的研發(fā)投入。

        更多的業(yè)務(wù)細(xì)節(jié)則在問詢函回復(fù)中才解開。10月8日晚間，蘇大維格詳細(xì)回復(fù)了相關(guān)問題。

        據(jù)介紹，光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、顯示面板、光電子等領(lǐng)域的產(chǎn)品制造過程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上，光刻機(jī)可以分為掩模光刻機(jī)(在運(yùn)行過程中均需要使用掩模板)，包括接觸式/接近式光刻機(jī)，投影式光刻機(jī)(如DUV和EUV)等;以及無掩模光刻機(jī)，即直寫光刻機(jī)，包括電子束光刻機(jī)、激光直寫光刻機(jī)、激光直接成像設(shè)備(LDI)等。半導(dǎo)體及平板顯示制造普遍采用“直寫光刻制作掩模+投影光刻批量復(fù)制”的工藝過程。

        蘇大維格坦言，一般所稱的光刻機(jī)是有掩模光刻機(jī)中的投影式光刻機(jī)，與公司所生產(chǎn)的激光直寫光刻機(jī)不屬于同一技術(shù)路線。公司自2001年左右開始研發(fā)各類光刻設(shè)備，包括激光直寫光刻機(jī)、納米壓印設(shè)備等，前述設(shè)備主要用于微納光學(xué)產(chǎn)品和衍射光學(xué)器件的制造，公司所生產(chǎn)的光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)。

        具體看主要客戶及下游用途情況，蘇大維格開發(fā)生產(chǎn)的激光直寫光刻設(shè)備是一種多用途的設(shè)備，目前主要是自用，公司對外銷售的金額較小，2022年實(shí)現(xiàn)對外銷售收入約770.93萬元，2023年上半年實(shí)現(xiàn)對外銷售收入約2177.27萬元，客戶主要包括兩類：第一類是高校和科研院所，其采購公司光刻設(shè)備主要是用作相關(guān)領(lǐng)域的研究。第二類客戶是除高校和科研院所外的其他客戶，主要包含各類企業(yè)客戶，其采購公司光刻設(shè)備主要用于其部分產(chǎn)品的研發(fā)及小批量試制、微納光學(xué)材料及光通訊器件的制作等領(lǐng)域。

        從銷售區(qū)域來看，蘇大維格光刻設(shè)備收入以境內(nèi)為主。2022年境外收入為310.09萬元，2023年上半年為0。

        就公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造，蘇大維格表示，公司光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)，這部分市場被行業(yè)龍頭公司主導(dǎo)和壟斷。公司光刻設(shè)備主要為自用于各類微納光學(xué)產(chǎn)品和衍射光學(xué)器件的制造，對外銷售金額較小，外部客戶采購主要用于相關(guān)領(lǐng)域的研發(fā)、試制和微納光學(xué)材料等生產(chǎn)。公司激光直寫光刻設(shè)備在最小線寬、線寬均勻度、網(wǎng)格精度、穩(wěn)定性等關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)與同行業(yè)龍頭公司相比存在較大差距。

        涉嫌信披違規(guī)被立案

        在監(jiān)管問詢下，蘇大維格在回復(fù)函中還進(jìn)行了致歉。公司證券部門在回復(fù)相關(guān)互動易問題時，直接使用了“光刻機(jī)”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述，未能充分考慮到部分投資者可能對光刻機(jī)的技術(shù)路線、相關(guān)技術(shù)的具體應(yīng)用領(lǐng)域等情況不了解，未詳細(xì)說明公司光刻設(shè)備的具體類型，公司主要的應(yīng)用領(lǐng)域，與行業(yè)龍頭企業(yè)的差距，以及客戶主要用途等信息;也未說明相關(guān)設(shè)備收入占公司收入比重較低，未充分提示相關(guān)風(fēng)險。

        就前述回復(fù)引起了部分投資者誤會和誤解，并導(dǎo)致公司股價發(fā)生較大波動，對此，公司及公司證券部門誠懇向投資者表示歉意，并將積極吸取經(jīng)驗(yàn)教訓(xùn)，進(jìn)一步完善相關(guān)制度和程序等。

        此番問詢函回復(fù)披露之際，蘇大維格還披露收到證監(jiān)會的立案通知。立案告知書顯示，因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規(guī)，中國證監(jiān)會決定對蘇大維格立案調(diào)查。

        蘇大維格表示，立案調(diào)查期間，公司將積極配合中國證監(jiān)會的調(diào)查工作，并嚴(yán)格按照監(jiān)管要求履行信息披露義務(wù)。目前，公司各項生產(chǎn)經(jīng)營活動正常開展。

        二級市場上，蘇大維格近期股價震蕩下跌，現(xiàn)價24.82元/股，已跌回前述“光刻機(jī)”概念狂歡前水平。

《電鰻快報》